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Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography

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This book discusses physical design and mask synthesis of directed self-assembly lithography (DSAL). It covers the basic background of DSAL technology, physical design optimizations such as placement and redundant via insertion, and DSAL mask synthesis as well as its verification. Directed self-assembly lithography (DSAL) is a highly promising patterning solution in sub-7nm technology.

Informations bibliographiques

février 2019, 138 Pages, NanoScience and Technology, Anglais
Springer Nature EN
978-3-030-09455-3

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